01
模型定位
Seedream 5.0 Lite 的主要優勢是批次生成與快速生成，尤其適合批次創意製作。
Seedream 5.0 Lite AI 圖像生成器
使用 Seedream 5.0 Lite 進行專門的 AI 圖像生成。生成前了解核心能力、適用場景、即時參數、提示詞方法、範例與限制。
模型概覽
Seedream 5.0 Lite 是什麼？
Seedream 5.0 Lite 有自己的生成定位與工作流程，本頁只圍繞此模型展開，而不是把它當成通用生成器中的普通選項。
02
輸入方式
Seedream 5.0 Lite 可用於文字生圖與圖像編輯。使用參考圖時，應明確每張圖負責身分、產品結構、構圖或風格中的哪一項。
03
輸出控制
本頁的即時參數表是 Seedream 5.0 Lite 目前可用設定的真源。畫面比例、解析度、時長與參考素材數量會跟隨目前配置路線變化。
核心能力
Seedream 5.0 Lite 核心能力
這些是選擇 Seedream 5.0 Lite 建立獨立生成流程時最值得關注的能力。
01
批次生成
批次生成是 Seedream 5.0 Lite 的核心優勢之一，應圍繞實際目標使用，而不是一次開啟所有控制項。
02
快速生成
快速生成是 Seedream 5.0 Lite 的核心優勢之一，應圍繞實際目標使用，而不是一次開啟所有控制項。
03
指令理解與跟隨
指令理解與跟隨是 Seedream 5.0 Lite 的核心優勢之一，應圍繞實際目標使用，而不是一次開啟所有控制項。
04
自訂尺寸
自訂尺寸是 Seedream 5.0 Lite 的核心優勢之一，應圍繞實際目標使用，而不是一次開啟所有控制項。
即時參數
Seedream 5.0 Lite 支援的參數
以下參數直接來自目前配置的 Seedream 5.0 Lite 路線，因此會與生成器實際可提交的設定保持一致。
- 長寬比
- auto · 1:1 · 2:3 · 3:2 · 3:4 · 4:3 · 4:5 · 5:4 · 9:16 · 16:9 · 21:9 · 9:21
- 分辨率
- 2K · 3K · 4K
- 參考圖片
- 14
- 輸出格式
- jpeg · png
- 生成數量
- 1 · 2 · 3 · 4 · 5 · 6 · 7 · 8 · 9 · 10 · 11 · 12 · 13 · 14 · 15
- 批量
- 1–15
- 自訂尺寸
- ✓
使用方法
如何使用 Seedream 5.0 Lite
先得到一個可評估的第一版，再逐步增加解析度、參考素材或其他進階控制。
01
選擇生成模式
新構圖使用文字生圖；需要 Seedream 5.0 Lite 修改現有視覺時使用圖生圖。
02
只加入有作用的參考圖
參考圖應分別服務於身分、產品細節、版面、色板或風格，不要混入無關圖片。
03
寫清楚一個具體任務
明確主體、構圖、光線、風格、限制條件與必須保持不變的內容。
04
檢查後再迭代
先檢查文字、手部、小物件、材質、身分與構圖，再提高解析度或批次生成。
適用場景
Seedream 5.0 Lite 適合做什麼
當專案需求與以下場景相符時，Seedream 5.0 Lite 更容易發揮價值。
01
批次創意製作
Seedream 5.0 Lite 適合用於批次創意製作。建議保持任務目標單一，並把結果與原圖或參考素材逐項對照。
02
社群內容
Seedream 5.0 Lite 適合用於社群內容。建議保持任務目標單一，並把結果與原圖或參考素材逐項對照。
03
概念探索
Seedream 5.0 Lite 適合用於概念探索。建議保持任務目標單一，並把結果與原圖或參考素材逐項對照。
04
電商素材
Seedream 5.0 Lite 適合用於電商素材。建議保持任務目標單一，並把結果與原圖或參考素材逐項對照。
提示詞指南
Seedream 5.0 Lite 提示詞怎麼寫
提示詞應足夠具體，但不要堆疊互相衝突的要求。
提示詞範例
Seedream 5.0 Lite 提示詞範例
這些範例適合作為起點，再替換成你的主體、參考素材、風格與限制條件。
- 01
電影感畫面：孤獨的旅人站在浮島邊緣，夕陽天空中飄着紫金色雲彩，概念藝術風格，尺度壯闊
- 02
超寫實肖像：年邁的巫師閱讀發光的書，燭光照亮皮膚紋理和空氣中的塵埃，傑作質感
- 03
黎明時分寧靜的日式禪意庭園，耙出的砂礫紋理、覆滿苔蘚的石頭、柔和晨霧，電影感攝影
需要檢查
Seedream 5.0 Lite 的限制與檢查重點
Seedream 5.0 Lite 可以提高製作效率，但生成結果仍應經過人工檢查後再作為最終素材。
- Seedream 5.0 Lite 結果中的小字文字、手部、Logo、產品細節與重複紋理需要在發布前檢查。
- 參考圖只有在清楚且互不衝突時才有助於控制；品質差或目標衝突的參考圖會降低一致性。
- 高解析度、多參考圖、遮罩或批次流程通常比簡單草稿消耗更多積分或處理時間。
FAQ