快速生成
Nano Banana 2 的快速生成面向日常出圖節奏，一句場景描述即可先拿到可評估的首版，再決定是否繼續加精。建議先用小尺寸連試三版構圖，選中後再提高解析度。
Nano Banana 2 AI 圖像生成器
Nano Banana 2 (Gemini 3.1 Flash Image) 是Google DeepMind推出的 AI 圖像生成模型。 使用 Nano Banana 2 進行專門的 AI 圖像生成。生成前了解核心能力、適用場景、即時參數、提示詞方法、範例與限制。 以下章節分別講解它的能力、即時參數、提示詞、範例與檢查要點。
模型定位
Nano Banana 2 的主要優勢是快速生成與圖像編輯，尤其適合社群內容。
輸入方式
Nano Banana 2 可用於文字生圖與圖像編輯。使用參考圖時，應明確每張圖負責身分、產品結構、構圖或風格中的哪一項。
輸出控制
本頁的即時參數表是 Nano Banana 2 目前可用設定的真源。畫面比例、解析度、時長與參考素材數量會跟隨目前配置路線變化。
核心能力
Nano Banana 2 核心能力
這些是選擇 Nano Banana 2 建立獨立生成流程時最值得關注的能力。
圖像編輯
用 Nano Banana 2 做圖像編輯時，「保留什麼、改什麼」分開寫最穩：人物與產品主體不動，只改背景、服裝或光線。輸出後把原圖與結果並排對照，重點檢查手部與邊緣過渡。
靈活畫面比例
Nano Banana 2 支援橫豎畫面切換，同一創意可按 1:1、4:5、16:9 分別輸出，覆蓋資訊流與封面位。窄畫面出圖後先檢查主體是否被裁切，再微調構圖描述。
高解析度輸出
Nano Banana 2 的高解析度輸出適合把已定稿的草圖放大為可用成品，紋理與文字邊緣更乾淨。建議先低解析度定稿、最後一步再開高解析度，避免反覆消耗積分。
即時參數
Nano Banana 2 支援的參數
以下參數直接來自目前配置的 Nano Banana 2 路線，因此會與生成器實際可提交的設定保持一致。
- 長寬比
- auto · 1:1 · 1:4 · 1:8 · 2:3 · 3:2 · 3:4 · 4:1 · 4:3 · 4:5 · 5:4 · 8:1 · 9:16 · 16:9 · 21:9
- 分辨率
- 0.5K · 1K · 2K · 4K
- 參考圖片
- 14
使用方法
如何使用 Nano Banana 2
先得到一個可評估的第一版，再逐步增加解析度、參考素材或其他進階控制。
選擇生成模式
新構圖使用文字生圖；需要 Nano Banana 2 修改現有視覺時使用圖生圖。
只加入有作用的參考圖
參考圖應分別服務於身分、產品細節、版面、色板或風格，不要混入無關圖片。
寫清楚一個具體任務
明確主體、構圖、光線、風格、限制條件與必須保持不變的內容。
檢查後再迭代
先檢查文字、手部、小物件、材質、身分與構圖，再提高解析度或批次生成。
適用場景
Nano Banana 2 適合做什麼
當專案需求與以下場景相符時，Nano Banana 2 更容易發揮價值。
社群內容
用 Nano Banana 2 做社群內容時，一次只定一個主題，連出一組色板一致的九宮格或系列貼。發布前逐張檢查小字與 Logo 是否走形。
概念探索
拿 Nano Banana 2 做概念探索時，固定主體詞、連續輪換風格、鏡頭與光線，一小時就能攢出一面靈感牆。入選方案記得存下完整提示詞，方便回頭復現。
產品視覺
Nano Banana 2 拍產品視覺時，用產品結構圖做參考並寫清「瓶身比例與標籤文字不變」，只換場景與光線。每版都要放大檢查標籤文字與材質反光。
批次創意製作
用 Nano Banana 2 批次做創意時，先固定模板句式再輪換關鍵詞，同一結構可連出節日、促銷多個版本。建議建一張關鍵詞與通過率對照表，複用成本最低。
先寫視覺層級
先明確主體、景別與構圖，再補充風格、光線與材質。
編輯時拆分保留與修改
明確寫出哪些內容必須保留、哪些內容需要改變，比重新描述整張圖片更可靠。
每張參考圖只承擔明確角色
Nano Banana 2 使用多參考圖時，可以分別指定身分、產品形態、色板、版面或風格。
提示詞範例
Nano Banana 2 提示詞範例
這些範例適合作為起點，再替換成你的主體、參考素材、風格與限制條件。
- 01
東京夜晚的街頭市場，霓虹燈倒映在濕潤的路面上，電影風格
- 02
白色陶瓷馬克杯放在木桌上的極簡產品照，柔和自然光
- 03
漂浮島嶼和瀑布的奇幻風景，數位藝術風格，色彩鮮艷
需要檢查
Nano Banana 2 的限制與檢查重點
Nano Banana 2 可以提高製作效率，但生成結果仍應經過人工檢查後再作為最終素材。
Nano Banana 2 結果中的小字文字、手部、Logo、產品細節與重複紋理需要在發布前檢查。
參考圖只有在清楚且互不衝突時才有助於控制；品質差或目標衝突的參考圖會降低一致性。
高解析度、多參考圖、遮罩或批次流程通常比簡單草稿消耗更多積分或處理時間。
FAQ